半導体工場の排水規制対応：ふっ化物イオン濃度の連続測定導入で分析コスト削減と即時対応を実現
半導体工場で排水中のふっ化物イオン濃度を法規制値以下に管理する必要があった。ATIフッ素イオン濃度計を導入し、従来のサンプリング分析から連続測定に切り替えた。分析コストが削減でき、濃度上昇時に即座に対処可能になった。
提供（製品）
ATI フッ素イオン濃度計(Q46F型)
sunnyltd
▶
導入（顧客）
導入企業（非公開）
- 導入企業
- （非公開）
- 業種
- 製造業
- 部門
- 製造・環境管理
- 解決した製品
- ATI フッ素イオン濃度計(Q46F型)（sunnyltd.co.jp）
01課題
排水中のふっ化物イオン濃度を8mg/L以下に管理する必要があったが、従来はサンプリングして分析センターに依頼していたため、コストがかかり対応が遅れていた。
02やったこと
ATIフッ素イオン濃度計を導入し、排水中のふっ化物イオン濃度を現地で連続測定するシステムに切り替えた。自動校正・フローセル自動洗浄などの機能で運用負荷を軽減した。
03成果
分析コスト
削減削減
対応時間
即座に対処可能
排水中のふっ化物濃度が上昇した際にすぐに対処できるようになり、規制対応の確実性が向上した。
この事例の出典（掲載元）
https://www.sunnyltd.co.jp/case/3677/ ↗本ページは掲載元の公開事例の要約です。詳細・一次情報は出典元をご確認ください。 掲載内容の修正・削除のご依頼はこちらの窓口へ。
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