パナソニックのGaNデバイス開発時間を大幅に短縮、IsoVuが支援
パナソニックセミコンダクターソリューションズがGaNデバイス開発において測定上の課題を抱えていました。テクトロニクスの光絶縁プローブ技術「IsoVu」を導入することで、開発時間を大幅に短縮することができました。
提供（製品）
IsoVu™絶縁プローブ
tek
▶
導入（顧客）
パナソニックセミコンダクターソリューションズ株式会社
- 導入企業
- パナソニックセミコンダクターソリューションズ株式会社
- 業種
- IT・ソフトウェア
- 部門
- デバイス開発部門
- 解決した製品
- IsoVu™絶縁プローブ（tek.com）
01課題
GaNデバイス開発において、従来の測定手法では開発プロセスに時間がかかっていました。
02やったこと
テクトロニクスの光絶縁プローブ技術「IsoVu」を導入することで、より効率的かつ正確な測定を実現しました。
03成果
GaNデバイス開発時間を大幅に短縮
この事例の出典（掲載元）
https://jp.tek.com/document/case-study/panasonic-semiconductor-solutions-case-study ↗本ページは掲載元の公開事例の要約です。詳細・一次情報は出典元をご確認ください。 掲載内容の修正・削除のご依頼はこちらの窓口へ。
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